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标题: 佳能：我来给中国提供光刻机 [打印本页]

作者: 匿名 时间: 2022-11-16 10:36 标题: 佳能：我来给中国提供光刻机

作为日本老牌电子巨头，佳能相机做得好，但光刻机做得也不差。

就在今年年初，佳能关闭了运营 32 年的珠海工厂。尽管，巅峰时期，这里曾一度占了佳能全球卡片数码相机的一半产量。

到了下半年，不断收缩中的佳能，却大手一挥表示要投资 500 亿日元（约 25 亿人民币），新建半导体设备工厂。以 2021 年数据来看，佳能光刻机均价约为：

7857 万。

更具体来说，去年总计销售 140 台光刻机的佳能，想要将其产能提高两倍，同时，佳能还要研制一种名叫 NIL 的低成本高端设备，试图在全球高端光刻机领域分一杯羹。

毕竟一台最最基础的 EUV 光刻机就要超过 1 亿元，还是美刀。

故事似乎有些反常？

目前，全球半导体产业都处于周期底部，就连长期供不应求的台积电，也准备于今年关闭 4 台 EUV 光刻机，鼓励员工多休息。对于扩产、购买光刻机的意愿更是一降再降。

那么问题来了，晶圆厂们都不愿扩产了，佳能为何在此时增加光刻机产能？

01

佳能扩产，意在中国

项庄舞剑，意在沛公；佳能扩产，意在中国。

这么说，原因主要有二：

第一，虽然全球产能过剩，但中国芯片仍在扩张，需要光刻机。

首先来看看中国芯片企业的数量。

企查查搜索芯片，一年内成立的企业有 63017 家；成立 1-2 年的企业有 45511 家；成立 2-3 年的有 20678 家。尽管中国芯片产业没有按照摩尔定律发展，但是企业数量却按照摩尔定律在稳步推进。企业多了，实力不一定成正比增加，但对光刻机的需求，一定会暴涨。

其次看看企业愿意付出的代价。

在 2021 年史无前例大缺芯中，一台三十年前佳能的二手光刻机身价暴涨 17 倍，2014 年售价不到 10 万美元，却足足被炒作卖到了 170 万美元。尽管这台光刻机仅适用于 4 至 8 英寸的晶圆，只能用于 350nm 的技术。

第二，中国光刻机产业的自主化还有一段距离。

目前，要生产 7nm 以下先进芯片制程，极紫外线光刻机（EUV）是必选项。但全球范围内，仅阿斯麦一家具备 EUV 光刻机的生产能力。

那我们距离 EUV 的距离有多远呢？

目前国内最先进的光刻机来自上海微电子，其最先进的光刻机是一款代号 SSA600/20 的 DUV 设备，只能用于 90nm 芯片的生产。而 90nm，是台积电两千年前后就已经量产的芯片制程。

因此，扩产中的中国芯片事业，迫切需要补上光刻机的短板。

02

为什么是佳能？

全球范围内，能做光刻机的企业不少，为什么是佳能？

最直接的原因是，佳能更容易绕过长臂管辖。

当前，全球的光刻机主要可以分为两类，EUV 与 DUV。简单来说，EUV 主要用于 7nm 及更先进的制程，在这个市场中，来自荷兰的阿斯麦一家独大。而在 14nm 以及更成熟的制程中，则主要使用的是 DUV 设备，这一市场则由阿斯麦以及来自日本的佳能、尼康三分天下。

由于历史的原因，在光刻机的生产中，阿斯麦采用全球分工，尤其是光刻机的核心零部件光源主要来自美国，因此会受到更多的美国长臂管辖，而日本企业更多采用垂直一体化的生产模式，相对来说受限较小。

一边是山高皇帝远的美国管辖，一边是不断增长的中国市场，孰轻孰重，佳能自然早有结论。

政治原因之外，于佳能而言，借助中国市场，实现光刻机产业的 “弯道超车”，则是另一重它的隐秘 “芯事”。

根据爆料，佳能计划开发的该新一代设备很可能就是 2021 年成功研发的纳米压印光刻（NIL）的升级版。

所谓 NIL 技术，是将三维结构的掩膜压在晶圆的感光材料上，同时照射光线完成一次性转印，被称为是最有前景的光刻技术之一。

相比?EUV，NIL 主要有两大优势。

第一，NIL 更省钱。众所周知，EUV 设备就是一台吞金兽，光购买价款就超过了一台波音客机，还有一年超一千万度的耗电量。而 NIL 不仅设备投资仅有 EUV 的 40%，耗电量更是仅有 10%。

第二，技术更加独立自主。传统光刻机市场中，DUV 自主并不罕见，但到了 EUV 阶段，则需要来自美国的光源、德国的镜片、英国的真空腔，举全球之力完成。但是对 NIL 技术来说，主要技术以及零件来源是日本的佳能，铠侠以及大日本印刷株式会社（DNP），并早在 2017 年就开始在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发 NIL 量产。因此技术上并不受美国的长臂管辖。

当然，这些目前也仅仅只是佳能的官方宣传，而且主要被用在存储芯片的生产。

03

不可忽视的日本半导体实力

一直以来，对于中国芯片产业链的安全，我们常常将其与全面国产画上等号。但必须承认的是，我们的芯片产业链安全，是分两步走的：

第一步，左手去美化，右手全球化，减少美系设备、美系技术对我们的制约。

第二步，加快关于芯片设备、软件等上游环节的研发，实现国产。

显然，拉近与佳能在内的日本企业的距离，正是我们走第一步的重要一环。毕竟，日本企业在半导体产业上的实力不可小觑，全球半导体设备 TOP20 供应商中，有 11 家来自日本。

拆开各个环节来看，可以发现：

在光刻机领域，除了佳能之外，日本尼康同样是 DUV 领域的代表性玩家，并在 3D 芯片堆叠的封装光刻机等细分领域做到了全球领先。

再比如，除去光刻之外，一颗芯片的制造还需要许多其他环节的配合。半导体前 7 道工艺环节按照设备产线投资，可以分为 “三大四小” 七个环节，光刻、刻蚀、沉积这三大是重中之重。

三大之中，除了光刻机可以直接决定芯片的尺寸之外，刻蚀、沉积设备同样也决定着芯片的制程良率。甚至在 7nm 芯片的 DUV 时代，刻蚀机的投入一度超过光刻机，成为采购占比最高的芯片设备。

而日本的东京电子，正是一个从刻蚀到沉积，再到涂布多个领域四面开花的全能选手。尤其在涂布设备环节，东京电子的市占率高达九成，几近垄断。体现在营收上，东京电子是 2021 年全球半导体设备厂商营收的 TOP3，仅次于美国的应用材料和荷兰的 ASML。

设备之外，在芯片的上游材料方面，日本同样打满全场：譬如，在氟聚酰亚胺领域，日本企业的占比高达 90%。但日本的材料实力，可不只一个小小的氟聚酰亚胺，在 19 种芯片生产必备材料中，日本在其中的 14 种都处于行业领先，乃至垄断地位。

尾声

关于中国的半导体产业，总会有一种观点认为，我们成为了一座孤立无援的孤岛。但果真如此嘛？

一个最近的小切口，可以帮助我们更好的了解事情的全貌。

政客不断层层施压的当下，在今年上海的第五届进博会上，被美国点名的全球大型半导体及设备企业们踊跃参加：

阿斯麦表示，为了满足在华业务的日益增长，阿斯麦中国团队人数近年来稳定增加。

美籍的英特尔、超威半导体、高通、泛林、科磊等半导体巨头也亮相其中，直言 “可推进新一代半导体技术的突破”。

而最近被美国屡屡点名，不能对中国出口 A100、H100 等高性能芯片的英伟达，则干脆选择 “偷梁换柱”，推出了 “中国特制版” 先进计算芯片 A800，既符合美国新的出口管制规定，同时也让那些对 A100、H100 有需求的中国企业，找到了低配平替。

毫无疑问，在一场所有人都身不由己的芯片政治中，政客要的是权利，企业要的是盈利，即使千难万险，他们仍会选择用脚投票。

来源：有数 DataVision ，作者严张攀 / 曾思怡

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